光刻机这就是一种作用于半导体工艺以及微电子的关键设备。可以有效制造集成电路又或者是其他的微纳米器件。光刻机的工作原理比较简单，可以通过光学系统逐渐的聚焦，然后形成比较小的光束，接着就可以展开投影。当光束直接通过时，就会聚焦到一个比较小的尺寸上，接着就会照到光敏感物质上面。

光刻机的作用

主要的是图案转移，制造微系结构以及高精度还有重复性。这就是光刻胶作为光敏材料的经过曝光等一系列的步骤，就可以把图案直接转移到其他的半导体材料表面，这也是电路设计过程中的其中一个部分。光刻机还能够有效制造一些微系结构，比如亚微米级别的孔洞可以起到隔离，传感，控制以及连接的效果，对电子器件的性能以及功能都是比较重要的。光刻机拥有重复性以及高精度的特点，可以制造精细的图案，拥有精准控制的特点，有效实现高度一致的图案转移。

工作原理

在加工芯片的过程中，通过一系列的光源能量控制，直接透过线路图的掩模。将线路图直接缩小比例可以映射到硅片上，然后也可以使用化学方法来显影，得到电路图。一般的光刻工艺需要经过表面的烘干，途光刻胶，还有激光刻石等工序。在经过一次光刻的芯片之后，就可以曝光涂胶，越复杂的芯片线路图的层数越多，此时也需要更加精密的曝光控制过程。

光刻机的结构：

1、测量台、曝光台：是一个能够有效起到承载硅片的工作台。

2、激光器：是一个主要光源，同样也是核心的一大设备。

3、光束矫正器：需要矫正光束的调整方向，可以让激光束尽可能的保持平行。

4、能量控制器：一定要选择控制照射到硅片上面的能量，如果曝光不足或者是曝光太足，都有可能会导致成像的质量受到影响。