中国五纳米光刻技术取得突破,中国3纳米光刻机突破。小编来告诉你更多相关信息。

我国在芯片技术领域需要更多的支持以及发展，毕竟我们已经晚了西方国家很大一步，想要在这方面有所成效就需要有更多的一些投入，而华为自从美国禁令颁布以来就有更多的一些想法，想要研发我们自身中国芯片的一些研制，也是华为掀起来的风潮，现在获得的支持是比较多的。

这一次被美国卡脖子，下一次也可能hi被其他国家卡，也让更多人意识到了技术发展必须依靠自身，不论是哪个国家，合作都不会是永远的，如果他们想反悔的话也仅仅只是一张通告的事情。

在芯片技术的发展上，不仅有企业的发展，也有一些科学研究院的支持，中科院的研制也有了一段时间，现在也有一些比较好的消息传来，他们有了5纳米光刻机关键技术的一些突破。

光刻机一直都是我们芯片研制上最大的一个阻碍，如果能在这方面有所突破的话，就意味着我们的发展将会一马平川，这一项技术的突破是由张子旸团队研发出来的，由于我们在光刻机的研制上其实经验是比较少的，所以我们就采用了另外的一种方式。

现在开发了一种新型的结构，这种技术可以实现双激光光束的交叠，这样的话就能够在密度以及波长上进行更为精确的控制。

由于本身光刻机的研制我们就不擅长，所以如果按照传统的发展模式的话，我们需要有更多的一些发展，但如果我们采取另一种方式，说不定会更快。

这一新型技术的实验结果也表明了，在线面上将精确度精确到5纳米，5纳米芯片技术的研制是现在荷兰才能掌握的技术，如果我们能够在这方面有所突破的话，也就意味着我们可以有更好的发展。

这关键技术的功课也意味着西方国家的垄断模式可能即将被打破，现在既然证明了这一方法可行，也就是说我们能够有更多的一些能力提升了，还请大家做一些更多的关注。

国家发展的强大自然离不开各个领域的一些支持，而现在我们有了这样的发展，相信也会有更多的一些成效。

好了今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！